| TEM & APT 동시분석법 개발

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문서번호	PLA05201702	작성일	2017. 06. 30.
소속	나노융합기술원	담당자	김성규
연락처	010-2851-6528	이메일	goresil@postech.ac.kr
[ 공 정 규 격 서 ]
공정명	TEM & APT 동시분석법 개발	공정분류	시편분석
1. 공정 목적 및 용도
3차원 구조 및 성분분석을 위한 TEM & APT 동시분석 진행을 목적으로 함
2. 공정 구조 및 특성
공정 구조 및 특성
3. 공정순서
4. 공정 조건
분석 조건 분석 결과물(사진) 1) FIB 샘플제작 image 2) TEM 분석 image 3) APT 분석 조건 및 image Analysis mode : Laser Pulse mode Laser - Wavelength : UV(355 nm) - Pulse Energy : 300pJ - Pulse rate : 125kHz Detection Rate : 0.5% Algorithm : Slow 2 ~ 15 kV, 50 Kelvin, 2.7E-11 Torr 4. 기타 : metal coating의 경우 샘플이 TEM 분석이 진행될 때 샘플파괴가 일어나지 않는 조건 확보