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| TEM & APT 동시분석법 개발

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문서번호 PLA05201702 작성일 2017. 06. 30.
소속 나노융합기술원 작성자 김성규

[ 공 정 규 격 서 ]

공정명 TEM & APT 동시분석법 개발 공정분류 시편분석
1. 공정 목적 및 용도
3차원 구조 및 성분분석을 위한 TEM & APT 동시분석 진행을 목적으로 함
2. 공정 구조 및 특성
공정 구조 및 특성
3. 공정순서
4. 공정 조건
분석 조건





분석 결과물(사진)



1) FIB 샘플제작 image



2) TEM 분석 image









3) APT 분석 조건 및  image

    Analysis mode : Laser Pulse mode

    Laser   - Wavelength : UV(355 nm)

        - Pulse Energy : 300pJ

         - Pulse rate : 125kHz

    Detection Rate : 0.5%

    Algorithm : Slow

     2 ~ 15 kV, 50 Kelvin, 2.7E-11 Torr





4. 기타 : metal coating의 경우 샘플이 TEM 분석이 진행될 때 샘플파괴가 일어나지 않는 조건 확보