| 단일광자검출센서용 Quenching Resistor 형성을 위한 표준공정
문서번호 | SA2019010 | 작성일 | 2019. 11. 29. |
소속 | 나노종합기술원 | 담당자 | 설우석 |
연락처 | 042-366-1605 | 이메일 | wssul@nnfc.re.kr |
[ 공 정 규 격 서 ] |
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공정명 | 단일광자검출센서용 Quenching Resistor 형성을 위한 표준공정 | 공정분류 | 모듈공정 |
1. 공정 목적 및 용도 | |||
나노 실리콘 기반 단일광자검출센서의 Reset 역할을 수행하는 중요한 수동소자인 Quenching Resistor 형성을 위한 표준공정 | |||
2. 공정 구조 및 특성 | |||
○ 공정 구조 ○ 공정 특성 - Construction Analysis : Resistor 단면 분석 (Etch Profile, Damage, Over-etch 분석) - Resistance Analysis : Poly-Silicon Sheet Resistance 측정 (4 Point Probe) |
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3. 공정순서 | |||
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4. 공정 조건 | |||
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